纳米二氧化硅抛光粉
VK-SP20F/50F/100F
晶瑞新材料 甘先生 18620162680
我公司系列二氧化硅抛光粉产品均是以高纯硅粉为原料，经特殊工艺生产的一种高纯度颗粒均匀，分散性好，切削力好，镜面效果好的抛光粉，广泛用于多种材料纳米级的高平坦化抛光，
抛光范围：硅晶圆片、锗片、化合物半导体材料砷化镓、磷化铟，精密光学器件、蓝宝石片等的抛光加工。金属镜面抛光
抛光特点：具有应用领域广、抛光效率高、杂质含量低、抛光后容易清洗等特点。如：硅片、化合物晶体、精密光学器件、宝石玉器等的抛光加工。
我公司生产的纳米二氧化硅抛光粉具有粒径小、分散性好，粘度低，抛光亮度高，光泽细腻，可以解决材料表面粗糙度、波纹度和表面缺陷等问题。 可以做光学玻璃抛光，玻璃水钻抛光，宝石抛光，金属抛光，石材抛光等精密抛光。
用量
推荐用量为8～20％，调成浆料再进行抛光。使用者应根据不同体系经过试验决定最佳添加量
储藏：常温密闭储藏。
包装：10公斤/袋。
